Czyszczenie laserowe, znane również jako laserowe usuwanie materiału lub ablacja laserowa, to zaawansowana metoda czyszczenia, która wykorzystuje-wiązkę lasera o wysokiej energii do napromieniowania powierzchni przedmiotu obrabianego, powodując natychmiastowe odparowanie lub złuszczenie się zanieczyszczeń powierzchniowych, takich jak rdza, powłoki i olej. Technologia ta charakteryzuje się tym, że nie jest-abrazyjna,-kontaktowa,-nie uszkadza podłoża i jest przyjazna dla środowiska.
W 1965 roku laureat Nagrody Nobla Arthur Schawlow odkrył, że atrament odparowuje i znika po napromieniowaniu zadrukowanego papieru pulsacyjnym laserem, co jako pierwszy zaproponował koncepcję „wymazywania laserowego”. W 1969 roku SM Bedair i inni podjęli próbę użycia laserów do usunięcia zanieczyszczeń tlenem i siarką z powierzchni materiałów niklowych. W 1973 roku zespół badawczy Asmusa doniósł o eksperymentach dotyczących laserowego czyszczenia dzieł sztuki. W 1987 roku Zapka złożył pierwszy w Niemczech wniosek patentowy na czyszczenie laserowe i w tym samym roku grupa badawcza radzieckiego naukowca Petrowa opublikowała pierwszą uznaną pracę na temat laserowego czyszczenia mikrocząstek. Technologia czyszczenia laserowego została zastosowana w takich dziedzinach, jak produkcja wiórów, usuwanie rdzy w samolotach i statkach, odnawianie artefaktów, czyszczenie form i produkcja transportu kolejowego.
